Impressum instagram Muster

Published on July 21, 2020

Um Muster auf dem Wafer zu erstellen, wird eine kleine Pfütze Flüssigkeit auf den Wafer abgegeben, und die Schablone wird gegen die Flüssigkeit gedrückt, um das Muster zu “aufdrucken”. Nach dem Aufdrucken wird das Muster dann auf dem Wafer fixiert. Bei SFIL wird das Widerstandsmaterial durch Uv-Licht verfestigt, während Wärme und Druck bei der NIL-Version der Impressumslithographie verwendet werden. Die Vorlage wird dann freigegeben, und das Substrat kann dann geätzt werden. Kürzlich wurde eine nichtprojektionslithographische Technologie, die Impressumslithographie, eingeführt.1 Die Imprint-Lithographie ist im Wesentlichen ein Mikromolding-Verfahren, schematisch in Abb. 12.23 dargestellt. Zunächst wird eine Vorlage des Musters erstellt. Diese besteht aus eingelassenen Bereichen auf einem Stück einer harten Substanz, die schließlich Teilen des Wafers entsprechen, wo Material nach dem Ätzen verbleibt. In einer Form dieser Technologie, Step-and-Flash-Impressum Lithographie (SFIL),2 wird die Schablone aus Glas gebildet. Es besteht aus Nickel oder Silizium in einer anderen Form, der Nano-Impressum-Lithographie (NIL).3 Die Imprint-Lithographie hat einige eindeutige Vor- und Nachteile.4 Da keine hochauflösende Linse benötigt wird, werden Druckmusterwerkzeuge voraussichtlich deutlich billiger sein als Hochleistungs-Step-and-Scan-Belichtungswerkzeuge.

Diesen Vorteil zu verrechnen, ist die 1-A-Natur der Vorlage, und es ist mit Schwierigkeiten zu rechnen, die denen mit Röntgenmasken ähneln. Es gibt jedoch einige Aspekte der Vorlagenherstellung für die Impressumslithographie, die die Herstellung einfacher machen als Röntgenmasken. Insbesondere war es notwendig, Röntgenmasken auf dünnen Membranen herzustellen, was die Registrierungskontrolle sehr erschwerte. In contast werden Aufdruckschablonen auf starren Glassubstraten gebildet. Selbst auf Glassubstraten stellt die 1-Zoll-Natur der Schablonen eine gewaltig emittible Herausforderung dar. Die Imprint Collection wurde mit einer eleganten Palette von In-Stock-Garnen entworfen und bringt acht neue stilvolle Muster in unser Quickship-Produktangebot. Die Impressumslithographie ist eine Kontaktmusterungsmethode. Die optische Projektionslithographie wurde als Ersatz für den optischen Kontaktdruck entwickelt, da die Fehlerkonzentrationen beim Kontaktdruck zu hoch waren, um ein hohes Maß an Integration zu unterstützen.